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乳液生产原料
技术指标
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CAS No. |
75-59-2/10424-65-4 |
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化学式 |
(CH3)4NOH·5H2O |
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外观 |
无色透明液体 |
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比重 @ 20℃ |
1.021 |
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项目 |
单位 |
Min |
Max |
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Assay |
% |
2.378 |
2.382 |
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Color |
色度 |
|
5 |
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CO32- (碳酸根) |
ppm |
|
80 |
|
Cl- ( 氯化物 ) |
ppm |
|
0.1 |
|
CH3OH (甲醇) |
ppm |
|
40 |
|
Li (锂) |
ppb |
|
5 |
|
Na (钠) |
ppb |
|
10 |
|
Mg (镁) |
ppb |
|
5 |
|
Al (铝) |
ppb |
|
10 |
|
K (钾) |
ppb |
|
10 |
|
Ca (钙) |
ppb |
|
10 |
|
Cr (铬) |
ppb |
|
5 |
|
Mn (锰) |
ppb |
|
5 |
|
Fe (铁) |
ppb |
|
5 |
|
Ni (镍) |
ppb |
|
5 |
|
Co (钴) |
ppb |
|
5 |
|
Cu (铜) |
ppb |
|
5 |
|
Zn (锌) |
ppb |
|
5 |
|
Mo (钼) |
ppb |
|
5 |
|
Cd (镉) |
ppb |
|
5 |
|
Pb (铅) |
ppb |
|
5 |
|
Ag (银) |
ppb |
|
5 |
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质点 >0.5um |
Ea/ml |
|
100 |
应用
硅片生产过程中计算机硅片表面的光亮剂清洁剂和触摸切割剂。
广泛应用于电子工业，特别是作为正阻显影剂、硅片湿法蚀刻剂和CMP工艺的超净溶液也用于制造集成电路、液晶显示器、印刷电路板、电容器、传感器和许多其他电子元件。
包装储存运输
可提供25kg/桶或200kg/桶
产品应贮存在密闭容器内，避免冷冻及高温，建议正常贮存温度在5℃~40℃
储存期：自交货日期起12个月
可按非危险品运输
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